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重量分析中，若待测物质中含的杂质与待测物的离子半径相近，在沉淀过程中往往形成（）

  • A、表面吸附
  • B、吸留与包藏
  • C、混晶
  • D、后沉淀

参考答案

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考题 样品预处理的目的是A、去除样品中的杂质B、富集待测物C、排除样品中的干扰D、提高分析仪器的灵敏度E、消除样品中待测物与基体的反应
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考题 在光谱法中，下列说法中不正确的是A、吸光系数与待测物的性质无关B、吸光系数与待测物的性质有关C、吸光系数与溶剂的性质有关D、吸光系数与光的波长有关E、吸光系数与待测物的浓度无关
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考题 在光谱法中，下列说法中不正确的是A、摩尔吸光系数与待测物的性质无关B、摩尔吸光系数与待测物的性质有关C、摩尔吸光系数与溶剂的性质有关D、摩尔吸光系数与光的波长有关E、摩尔吸光系数与待测物的浓度无关
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考题 在研制标准检验方法时，必须进行现场调查，主要是了解( )。A、现场生产过程中待测物在空气中的存在状态B、现场生产过程中待测物的产生情况C、现场气象条件对待测物的影响D、现场待测物在空气中的扩散规律E、现场生产过程中工人接触待测物的情况
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考题 样品预处理不能( )。A、排除样品中的干扰B、去除样品中的杂质C、提高分析仪器的灵敏度D、富集待测物E、消除样品中待测物与其基体的反应
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考题 在研制标准检验方法时，必须进行现场调查，主要是了解A.现场生产过程中待测物的产生情况B.现场待测物在空气中的扩散规律C.现场气象条件对待测物的影响D.现场生产过程中待测物在空气中的存在状态E.现场生产过程中工人接触待测物的情况
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考题 关于样品预处理的目的，描述错误的是（ ）。A.去除样品中的杂质 B.富集待测物 C.有利于待测物的测定 D.排除样品中的干扰 E.提高分析仪器的灵敏度
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考题 在原子吸收光谱分析中，加入消电离剂可以抑制电离干扰。一般来说，消电离剂的电离电位：（）A、比待测元素高B、比待测元素低C、与待测元素相近D、与待测元素相同
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考题 样品预处理是为了（）。A、去除样品中的杂质；B、富集待测物；C、提高分析仪器的灵敏度；D、排除样品中的干扰；E、消除样品中待测物与基体的反应。
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考题 试液中待测组分的（）决定沉淀剂的用量。A、含量B、浓度C、重量D、组成
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考题 使用“内标法”进行气相色谱定量分析时，选择内标物应注意其结构．性质与待测物相近且含量准确已知，此外还应注意（）。A、在色谱图上内标物单独出峰B、尽量使内标物峰与待测物峰相近C、内标物的响应信号足够大D、内标物的色谱峰为对称峰
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考题 将已知浓度的试剂溶液滴加到待测物质溶液中，使其与待测组分发生反应，而加入的试剂量又恰好为完成反应所必需的，根据加入试剂的准确体积计算出待测组分的含量，这样的分析方法称为滴定分析法，又称（）A、容量分析法B、仪器分析法C、重量分析法D、化学分析法
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考题 滴定分析中，若试剂含少量待测组分，可用于消除误差的方法是（）。A、仪器校正B、空白试验C、对照分析D、多测几组
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考题 电重量分析法中，作为沉淀剂的是：（）A、电子B、阳离子C、阴离子D、待测离子
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考题 在滴定分析中，从滴定管中将标准溶液滴加到待测物质的溶液中，直到与待测组分的反应定量完成，此时，它们的体积相等。
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考题 滴定分析中，若试剂含少量待测组分，可用于消除误差的方法是（）.A、仪器校正B、空白试验C、对照分析
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考题 在重量分析中，待测物质中含的杂质与待测物的离子半径相近，在沉淀过程中往往形成（）A、混晶B、吸留C、包藏D、后沉淀
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考题 在沉淀形成过程中，与待测离子半径相近的杂质离子常用待测离子一道与够晶离子形成（）A、吸留B、混晶C、包夹D、继沉淀
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考题 多选题样品预处理是为了（）。A去除样品中的杂质；B富集待测物；C提高分析仪器的灵敏度；D排除样品中的干扰；E消除样品中待测物与基体的反应。
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考题 单选题样品预处理是为了（）。A 去除样品中的杂质B 富集待测物C 提高分析仪器的灵敏度D 排除样品中的干扰E 消除样品中待测物与其基体的反应
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考题 单选题电重量分析法中，作为沉淀剂的是：（）A 电子B 阳离子C 阴离子D 待测离子
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考题 单选题在原子吸收光谱分析中，加入消电离剂可以抑制电离干扰。一般来说，消电离剂的电离电位：（）A 比待测元素高B 比待测元素低C 与待测元素相近D 与待测元素相同
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考题 单选题在重量分析中，待测物质中含的杂质与待测物的离子半径相近，在沉淀过程中往往形成（）A 混晶B 吸留C 包藏D 后沉淀
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考题 单选题样品预处理不能（）。A 去除样品中的杂质B 富集待测物C 提高分析仪器的灵敏度D 排除样品中的干扰E 消除样品中待测物与其基体的反应
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