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1、通过气态物质的化学反应在晶圆表面淀积一层固态薄膜的工艺称为()。
A.化学气相淀积
B.物理气相淀积
C.等离子淀积
D.热氧化
参考答案和解析
化学气相淀积
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考题
对于某种薄膜的CVD过程,淀积温度为900℃,质量传输系数hG=10cms-1,表面反应速率系数ks=1×107exp(-1.9eV/kT)cms-1。现有以下两种淀积系统可供选择(1)冷壁,石墨支座型;(2)热壁,堆放硅片型。应该选用哪种类型的淀积系统并简述理由。
考题
单选题物质的升华是由()。A
气态直接变为固态B
固态直接变为气态C
固态直接变为液态D
液态直接变为气态
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