网友您好， 请在下方输入框内输入要搜索的题目：

题目内容 （请给出正确答案）

16、光刻的工艺要求是： 。

A．图形完整，尺寸准确

B．套准对准，套准精度高

C．表面干净

D．具有一定的工艺宽容度

参考答案和解析
图形完整，尺寸准确;套准对准，套准精度高;表面干净;具有一定的工艺宽容度
更多 “16、光刻的工艺要求是： 。A．图形完整，尺寸准确B．套准对准，套准精度高C．表面干净D．具有一定的工艺宽容度” 相关考题
考题 LIGA (光刻)工艺制造微电子芯片属于精密特种加工。() 此题为判断题(对，错)。
查看答案
考题 B型超声诊断仪制造工艺采用（）A、光刻B、声刻C、雕刻D、透镜
查看答案
考题 简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性？
查看答案
考题 什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？
查看答案
考题 光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。
查看答案
考题 光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）
查看答案
考题 简述光刻工艺流程。
查看答案
考题 试分析4次光刻中第2次光刻的工艺方案。
查看答案
考题 试分析背沟道刻蚀型的5次光刻中过孔的工艺难点。
查看答案
考题 在集成电路工艺中，光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是（）。A、刻蚀B、氧化C、淀积D、光刻
查看答案
考题 问答题简述光刻的工艺过程。
查看答案
考题 问答题光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？
查看答案
考题 问答题简述光刻工艺的8道工序
查看答案
考题 问答题光刻工艺分为哪些步骤？
查看答案
考题 问答题简述光刻工艺步骤。
查看答案
考题 问答题光刻工艺包括哪些工艺？
查看答案
考题 问答题列出光刻工艺的十个步骤，并简述每一步的目的。
查看答案
考题 判断题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。A 对B 错
查看答案
考题 问答题最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？
查看答案
考题 问答题简述光刻工艺的8个基本步骤。
查看答案
考题 问答题简述光刻工艺3个主要过程
查看答案
考题 填空题集成电路制造工艺技术主要包括：热工艺、（）、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。
查看答案
考题 填空题光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
查看答案
考题 判断题光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。A 对B 错
查看答案
考题 问答题PN结隔离的双极集成电路工艺需要几次光刻，每次光刻目的是什么？
查看答案
考题 问答题为什么说光刻是IC制造中最重要的工艺？光刻的三个要素是什么？
查看答案
考题 问答题什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。
查看答案
考题 多选题以下属于光刻工艺的为：（）。A光刻胶涂覆B曝光C显影D腐蚀
查看答案
热门标签
最新试卷