网友您好， 请在下方输入框内输入要搜索的题目：
题目内容
（请给出正确答案）
光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）
参考答案
更多 “光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）” 相关考题
考题
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。A、二氧化硅B、氮化硅C、光刻胶D、去离子水
考题
下列有关蒙版（Mask）描述不正确的是（）A、通过Transparency（透明）调板弹出菜单中的MakeOpacityMask（创建透明蒙版）命令可以在两个图形之间创建透明蒙版B、蒙版可以遮盖图形的部分区域C、只有一般路径可用来制作蒙版，复合路径不能用来制作蒙版D、蒙版图形和蒙版之间的链接关系一旦建立，就不能删除
考题
多选题下列有关蒙版（Mask）描述不正确的是（）A通过Transparency（透明）调板弹出菜单中的MakeOpacityMask（创建透明蒙版）命令可以在两个图形之间创建透明蒙版B蒙版可以遮盖图形的部分区域C只有一般路径可用来制作蒙版，复合路径不能用来制作蒙版D蒙版图形和蒙版之间的链接关系一旦建立，就不能删除
考题
判断题对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。A
对B
错
热门标签
最新试卷