网友您好, 请在下方输入框内输入要搜索的题目:

题目内容 (请给出正确答案)

1、LPCVD的含义是

A.低压化学气相淀积

B.常压化学气相淀积

C.等离子体化学气相淀积

D.光化学气相淀积


参考答案和解析
正确
更多 “1、LPCVD的含义是A.低压化学气相淀积B.常压化学气相淀积C.等离子体化学气相淀积D.光化学气相淀积” 相关考题
考题 对语句(1)constint*x;和语句(2)int*constx;,描述正确的是()。 A、语句(1)的含义是指针变量x不能更改B、语句(2)的含义是指针变量x所指向的值不能更改C、语句(2)的含义是指针变量x不能更改D、语句(1)和(2)是相同含义的不同定义方式

考题 对下列语句正确的描述是( )。 const int *x; int *const x;A.语句1的含义是指针变量x不能更改B.语句2的含义是指针变量x所指向的值不能更改C.语句2的含义是指针变量x不能更改D.语句1和语句2含义是相同的

考题 对下列语句正确的描述是( )。 const int*x; //(1) int*const X; //(2)A.语句(1)的含义是指针变量x不能更改B.语句(2)的含义是指针变量x所指向的不能更改C.语句(2)的含义是指针变量x不能更改D.语句(1)和(2)是相同含义的不同定义方式

考题 0dB的含义是()1W=()dBm。

考题 采用LPCVD TEOS淀积的是什么膜?这层膜的优点是什么?

考题 命令ls -l file1与ls -l file1的含义的含义一样。

考题 ADD R0,R1,#1的含义是()

考题 简述FLD图中&、≥1、=1的含义。

考题 STM-1的含义是(),STM-4的含义是()。

考题 什么是Erlang?1Erlang表示什么含义?

考题 “1% of the amount you are going to send.”中文含义是:你要支付金额的1%。

考题 TU-AIS的含义是()和()指针全部为“1”。

考题 M1432中,“M”的含义是(),“1”的含义是(),“32”的含义是()。

考题 某旋风预热器的符号写成2-1-1-1-1是什么含义?2-2-2-2-2又是什么含义?

考题 问答题简述低压CVD系统(LPCVD)的优缺点。

考题 名词解释题LPCVD(低压CVD)

考题 问答题解释质量输运限制CVD工艺和反应速度限制CVD工艺的区别,哪种工艺依赖于温度,LPCVD和APCVD各属于哪种类型?

考题 判断题LPCVD多晶硅和氮化硅等薄膜易形成保形覆盖,在低温APCVD中,非保形覆盖一般比较常见。A 对B 错

考题 判断题LPCVD紧随PECVD的发展而发展。由660℃降为450℃,采用增强的等离子体,增加淀积能量,即低压和低温。A 对B 错

考题 判断题在LPCVD中,由于hGkS,即质量转移系数远大于表面反应速率常数,所以,LPCVD系统中,淀积过程主要是质量转移控制A 对B 错

考题 判断题在LPCVD中,由于hGkS,即质量转移系数远大于表面反应速率常数,所以,LPCVD系统中,淀积过程主要是表面反应速率控制A 对B 错

考题 填空题ADD R0,R1,#1的含义是()

考题 问答题APCVD、LPCVD、PECVD和HDPCVD中文名称分别是?

考题 判断题LPCVD系统中淀积速率是受表面反应控制的,APCVD系统中淀积速率受质量输运控制。A 对B 错

考题 填空题缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是()、()、高密度等离子体化学气相淀积和()。

考题 判断题LPCVD反应是受气体质量传输速度限制的。A 对B 错

考题 填空题M1432中,“M”的含义是(),“1”的含义是(),“32”的含义是()。

考题 判断题与APCVD相比,LPCVD有更低的成本、更高的产量以及更好的膜性能,因此应用更为广泛。A 对B 错