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硅的直接氧化反应式为:()和[Si]+2[O]=(SiO2)。
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考题
准确称取0.2140g纯二氧化硅(SiO2),配制成1000mL硅标准溶液,则硅的准确浓度为()。(Si:O:)A、0.0500mg/mLB、0.1000mg/mLC、0.1500mg/mL
考题
测定钢中硅的含量,称取3g,试样得到不纯的SiO2沉淀0.1257g,用氢氟酸和H2SO4处理,使SiO2变成SiF4↑挥发后,得到残渣为0.0008g,计算试样中硅的百分含量。(Si的原子量为28.082)
考题
填空题由于O2在SiO2中的扩散率远()于Si 在SiO2中的扩散率,所以氧化反应是由O2穿过SiO2层,在()界面与Si原子反应。相同温度下,湿氧氧化速率()于干氧氧化速率,是因为在SiO2中,H2O比O2有更()的扩散率和溶解度。由于N2和Si在Si3N4中的扩散率都很(),所以很难在Si衬底上热生长Si3N4。通常在Si衬底上用()法沉积Si3N4薄膜。
考题
问答题网络外体(如Na2O)加到SiO2熔体中,使氧硅比增加,当O/Si≈2.5~3时,即达到形成玻璃的极限,O/Si3时,则不能形成玻璃,为什么?
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