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（请给出正确答案）
在晶体场理论中，形成高自旋配合物的原因是
A．分裂能＞成对能
B．分裂能＜成对能
C．分裂能＞电离能
D．分裂能＜成键能
参考答案和解析
分裂能＜成对能
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考题
下列关于配合物高低自旋的说法，正确的是（）A、四面体构型多为低自旋B、配体性质对配合物高低自旋无影响C、中心离子氧化态越高，配合物越易呈高自旋状态D、中心离子半径越大，配合物越易呈低自旋状态
考题
关于高低自旋的判断规则，下列说法正确的是（）A、第二、三系列过渡金属，几乎都形成高自旋配合物B、除[Co（H2O）6]3+外，其余金属离子与H2O形成的配合物均是高自旋C、所有F-配合物均为低自旋D、所有CN-配合物均为高自旋
考题
下列关于配合物的叙述中错误的是（）A、高自旋的八面体配合物的CFSE不一定小于低自旋的CFSEB、同种元素的内轨型配合物比外轨型配合物稳定C、中心离子的未成对电子愈多，配合物的磁矩愈大D、价键理论的内轨型配合物对应着晶体场理论的高自旋配合物
考题
在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力
考题
以下几项属于EDTA配位剂的特性的是（）。A、EDTA具有广泛的配位性能，几乎能与所有的金属离子形成配合物B、EDTA配合物配位比简单，多数情况下都形成1：1配合物C、EDTA配合物稳定性高D、EDTA配合物易溶于水
考题
区分下列概念： （1）接受体原子和给予体原子； （2）配位体和配位原子； （3）配合物和复盐； （4）外轨配合物和内轨配合物； （5）高自旋配合物和低自旋配合物； （6）几何异构体和旋光异构体；
考题
以EDTA.为滴定剂，下列叙述中正确的有（）。A、在酸度较高的溶液中，可形成MHY配合物；B、在碱性较高的溶液中，可形成MOHY配合物；C、不论形成MHY或MOHY，均有利于滴定反应；D、不论溶液pH值的大小，只形成MY一种形式配合物。
考题
（）EDTA与金属离子的配合物有如下特点。A、EDTA具有广泛的配位性能，几乎能与所有金属离子形成配合物B、EDTA配合物配位比简单，多数情况下都形成1：1配合物C、EDTA配合物难溶于水，使配位反应较迅速D、EDTA配合物稳定性高，能与金属离子形成具有多个五元环结构的螯合物
考题
填空题四配位平面四方形Fe（II）卟啉配合物的轴向位置还可结合两个配位体。配位数最大的配合物[FePL2]（ P代表卟啉，L代表另外的配体）为低自旋，而[FePL]则为高自旋。第二步（生成[FePL2]）形成常数大于第一步（生成[FePL]）的原因是（）。
考题
单选题根据晶体场理论，判断高自旋配合物的判据为（）。A
分裂能大于成对能B
电离能大于成对能C
分裂能大于成对能D
分裂能小于成对能
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