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后沉淀引入杂质的量，随沉淀在试液中放置时间的延长而增多，而共沉淀量受放置时间影响较小。

参考答案和解析
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考题 由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是A、玷污随时间的延长而减少B、在较高的温度下，玷污较小C、只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成玷污D、在沉淀前，调节溶液的pH值可以控制玷污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制玷污的发生
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考题 杂质混入沉淀中主要是由共沉淀和后沉淀造成的。() 此题为判断题(对，错)。
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考题 陈化过程可以除去由吸咐和吸留引入的杂质离子，但不能除去由混晶共沉淀带入的杂质离子。（）
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考题 共沉淀现象可能是由（）等原因产生的。A、表面吸附B、生成混晶C、放置时间长D、吸留E、包藏
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考题 因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）A、随时间的延长而减少B、在较高的温度下，沾污较少C、只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D、在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生E、改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生
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考题 沉淀作用完毕后，应放置一段时间，使小晶粒溶解，大晶粒变大，这个过程称为（）。A、后沉淀B、沉淀的转化C、分级沉淀D、陈化
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考题 共沉淀引入的杂质量，随陈化时间的增大而增多。
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考题 影响沉淀的因素有：共沉淀现象和后沉淀现象。（）
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考题 沉淀析出后，在放置过程中，溶液中可溶或微溶的杂质又沉淀到原沉淀上面的现象，称为（）。A、分步沉淀B、共沉淀C、总沉淀D、后沉淀
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考题 一般情况下脱氢催化剂活性（）。A、随使用时间的延长而下降B、随使用时间的延长而上升C、随处理量的变大而上升D、随处理量的变大而下降
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考题 当沉淀从溶液中析出时，溶液中其他可溶性组分被沉淀带下来而混入沉淀之中的现象称为（）现象。A、共沉淀B、沉淀析出C、后沉淀D、表面析出
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考题 在重量分析中，下面说法（）是错误的。A、杂质浓度越大，则吸附杂质的量越多B、同质量的沉淀，颗粒越大，则总表面越大，吸附杂质的量越多C、溶液温度升高，吸附杂质的量减少D、沉淀剂加入过快时，沉淀迅速长大，易使得杂质离子被包藏在沉淀内部
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考题 影响沉淀纯度的因素是（）。A、共沉淀B、后沉淀C、共沉淀和后沉淀
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考题 在重量分析中，（）是沉淀重量法中最重要的误差来源之一。A、共沉淀B、后沉淀C、共沉淀和后沉淀
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考题 沉淀析出后，在沉淀与母液一起放置的过程中，溶液中本来难于析出的杂质离子可能沉淀到原沉淀表面上的现象称为（）现象。A、共沉淀B、沉淀析出C、后沉淀D、表面析出
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考题 沉淀称量法中，洗涤沉淀的目的是为了除去混杂在沉淀中的母液和吸附在沉淀表面上的杂质，以及产生共沉淀的其他离子。
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考题 清漆放置时间过长，易沉淀。
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考题 使用H2S溶液沉淀Hg2+时，共存的Ni2+、Zn2+等离子不产生沉淀。但HgS沉淀完全后放置一段时间，沉淀表面杂质质量明显增加。解释这一现象。
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考题 下面影响沉淀纯度的叙述不正确的是（）。A、溶液中杂质含量越大，表面吸附杂质的量越大B、温度越高，沉淀吸附杂质的量越大C、后沉淀随陈化时间增长而增加D、温度升高，后沉淀现象增大
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考题 沉淀与母液一起放置，经过一段时间后，溶液中某些可溶或微溶杂质可能沉淀到原沉淀上面，这种现象叫（）A、共沉淀B、后沉淀C、分步沉淀
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考题 在重量分析中，影响沉淀纯净的因素是共沉淀和后沉淀。
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考题 硫酸钡法测定钡的含量，下列情况使测定结果偏高或偏低还是无影响？ （1）沉淀带下了沉淀剂H2SO4 （2）试液中NO3-被共沉淀 （3）试液中Fe3+被共沉淀
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考题 沉淀在溶液中放置时间愈长，后沉淀现象愈严重。
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考题 单选题由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（　　）。A 只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成粘污B 在沉淀前，调节溶液的pH可以控制粘污的发生C 在较高的温度下，粘污较小D 粘污随陈化时间的延长而减少E 改变沉淀剂的浓度可以控制粘污的发生
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考题 单选题沉淀与母液一起放置，经过一段时间后，溶液中某些可溶或微溶杂质可能沉淀到原沉淀上面，这种现象叫（）A 共沉淀B 后沉淀C 分步沉淀
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考题 单选题由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的玷污，其方法是（）A 玷污随时间的延长而减少B 在较高的温度下，玷污较小C 只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成玷污D 在沉淀前，调节溶液的pH值可以控制玷污的发生E 改变沉淀剂的浓度可以控制玷污的发生
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考题 单选题由于存在着后沉淀现象，需要控制沉淀物的粘污，其方法是（）A 粘污随时间的延长而减少B 在较高的温度下，粘污较小C 只有在沉淀物生成后，加入杂质才会造成粘污D 在沉淀前，调节溶液的pH可以控制粘污的发生E 改变沉淀剂的浓度可以控制粘污的发生
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考题 单选题因为存在着后沉淀现象，所以沉淀物的沾污程度（）A 随时间的延长而减少B 在较高的温度下，沾污较少C 只要在沉淀物生成后加入杂质才会造成沾污D 在沉淀前，调节溶液的pH可以控制沾污的发生E 改变沉淀剂的浓度可以控制沾污的发生
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