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掩蔽剂的用量过量太多,待测离子也可能被掩蔽而引起误差。


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更多 “掩蔽剂的用量过量太多,待测离子也可能被掩蔽而引起误差。” 相关考题
考题 掩蔽作用有可能在哪几方面对结构优势效应产生影响?() A、实验有无掩蔽B、掩蔽类型C、掩蔽出现的延缓时间D、被试特性

考题 为消除干扰离子的影响,可采用掩蔽法。掩蔽分为()、()、()。

考题 利用掩蔽剂来降低干扰离子,使之不与()或()络合的方法称为掩蔽法。

考题 利用掩蔽剂来()干扰离子的浓度,使之不与EDTA或指示剂络合,这种方法称掩蔽法。 A、降低B、升高C、不改变

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能祉掩蔽而引起误差。此题为判断题(对,错)。

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能被掩蔽而引起误差。此题为判断题(对,错)。

考题 分光光度法分析中,如果显色剂无色,而被测试液中含有其他有色离子时,宜选择()作参比液可消除影响。A.蒸馏水B.不加显色剂的待测液C.掩蔽掉被测离子并加入显色剂的溶液D.掩蔽掉被测离子的待测液

考题 酒石酸钾钠是作为掩蔽金属离子的掩蔽剂参加测定的。此题为判断题(对,错)。

考题 如果掩蔽音和被掩蔽音都是纯音,下面哪一种说法是不正确的?() A.声音的掩蔽受频率和强度的影响 B.两个声音频率越接近,掩蔽作用越小 C.掩蔽音强度提高,掩蔽作用增加,覆盖的频率范围也增加 D.低频音对高频音的掩蔽作用比高频音对低频音的掩蔽作用大

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能祉掩蔽而引起误差。

考题 在EDTA配位滴定中,下列有关掩蔽剂的叙述中正确的是()。A、配位掩蔽剂必须可溶且无色B、氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态C、掩蔽剂的用量越多越好D、掩蔽剂最好是无毒的

考题 分光光度法的参比液的类型有()。A、加入掩蔽剂的蒸馏水B、蒸馏水C、不加显色剂的被测试液D、加入掩蔽剂的被测溶液

考题 沉淀掩蔽剂与干扰离子生成的沉淀的()要小,否则掩蔽效果不好。A、稳定性B、还原性C、浓度D、溶解度

考题 用分光光度法测定某溶液,若没有其它离子干扰,显色剂也无色,通常选择()做参比。A、水B、试剂空白C、掩蔽被测组分的显色溶液D、空气

考题 在配位滴定中,对配位掩蔽剂的要求有()。A、干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的B、干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小C、掩蔽剂应不与被测离子配位,或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性D、滴定要求的pH范围内,具有很强的掩蔽能力

考题 分光光度法分析中,如果显色剂无色,而被测试液中含有其他有色离子时,宜选择()作参比液可消除影响。A、蒸馏水B、不加显色剂的被测液C、掩蔽掉被测离子并加入显色剂的溶液D、掩蔽掉被测离子的待测液

考题 一种能与干扰离子起作用,而不影响试验结果的试剂叫做掩蔽剂。()

考题 掩蔽剂的用量过量太多,被测离子也可能被掩蔽而引起误差。

考题 配位滴定法中利用掩蔽剂掩蔽杂质离子的方法有()、()和()。

考题 在选择掩蔽剂时,掩蔽剂应与被测离子形成络合物。

考题 配位滴定中,在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时,下列注意事项中说法不正确的是()。A、掩蔽剂不与待测离子配合,或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在,应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的,不影响终点的判断

考题 掩蔽剂是指种能干扰离子起作用,而不影响()的试剂。

考题 常用的掩蔽干扰离子的方法有哪些?如何选择合适的掩蔽剂?

考题 单选题在EDTA滴定中,下列有关掩蔽剂的应用叙述,不正确的是()。A 当铝、锌离子共存时,可用NH4F掩蔽Zn2+,而测定Al3+B 测定钙、镁时,可用三乙醇胺掩蔽少量Fe3+、Al3+C Bi3+、Fe2+共存时,可用盐酸羟胺掩蔽Fe3+的干扰D 钙、镁离子共存时,可用NaOH掩蔽Mg2+

考题 单选题在配位滴定中,消除金属指示剂僵化现象的方法是()A 加热B 分离出被测离子C 掩蔽干扰离D 加酸

考题 多选题掩蔽作用有可能在哪几方面对结构优势效应产生影响?()A实验有无掩蔽B掩蔽类型C掩蔽出现的延缓时间D被试特性

考题 单选题用指示剂(In),以EDTA(Y)滴定金属离子M时常加入掩蔽剂(X)消除某干扰离子(N)的影响。不符合掩蔽剂加入条件的是()。A KNX<KNYB KNX>>KNYC KMX<<KMYD KMIn>KMX

考题 多选题为消除干扰离子的影响,可采用掩蔽法。掩蔽法分为()。A络合掩蔽;B沉淀掩蔽;C氧化-还原掩蔽;D滴定掩蔽。