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在沉淀形成过程中,与待测离子半径相近的杂质离子常与待测离子一道与构晶离子形成
A.吸留
B.混晶
C.包藏
D.后沉淀
参考答案和解析
混晶
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考题
控制酸度可提高EDTA滴定选择性的原因是:()
A、降低杂质离子的浓度B、提高待测离子的浓度C、提高待测金属离子的KMYD、使杂质离子的KNY’降低到不能被滴定的程度E、使杂质离子形成另外一种稳定化合物
考题
用离子选择电极以校正曲线进行定量分析时,应要求()。A、试样溶液与标准系列溶液的离子强度相一致B、试样溶液与标准系列溶液的离子强度大于1C、试样溶液与标准系列溶液中待测离子活度相一致D、试样溶液与标准系列溶液中待测离子强度相一致
考题
在电位分析法中作为指示电极,其电位应()A、与溶液中离子的活度呈Nernst响应B、与溶液中待测离子的活度呈Nernst响应C、与溶液中H+离子的活度呈Nernst响应D、与溶液中待测离子的活度呈线性响应
考题
造成后沉淀的原因,说法错误的是()。A、由于沉淀表面吸附了构晶离子B、由于沉淀表面吸附的构晶离子再吸附溶液中带相反电荷的杂质离子C、由于沉淀陈化的时间不够长D、由于在沉淀表面附近形成了过饱和溶液
考题
配位滴定中,在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时,下列注意事项中说法不正确的是()。A、掩蔽剂不与待测离子配合,或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性B、干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定C、在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在,应具有较强的掩蔽能力D、掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的,不影响终点的判断
考题
单选题在电位分析法中作为指示电极,其电位应()A
与溶液中离子的活度呈Nernst响应B
与溶液中待测离子的活度呈Nernst响应C
与溶液中H+离子的活度呈Nernst响应D
与溶液中待测离子的活度呈线性响应
考题
单选题如果共沉淀的杂质离子与沉淀的构晶离子半径相近,电荷相同,则易形成()A
表面吸附B
混晶C
机械吸留D
后沉淀
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