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金相试验中试样细磨后还需要进一步抛光,抛光的目的是为了去除细磨时留下的细微磨痕而获得光亮的镜面,以下不属于金相试样的抛光方法的是()

  • A、机械抛光
  • B、侵蚀抛光
  • C、电解抛光
  • D、化学抛光

参考答案

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考题 用湿水布轮磨基托的表面,是义齿磨光工作中的哪一步骤A、粗磨B、细磨C、磨平和细磨D、抛光和粗磨E、磨平和抛光

考题 半自动磨边机的监控自动磨边过程不包括( )。A.自动粗磨B.自动细磨C.自动磨尖角D.自动抛光

考题 镜片( )的目的是去除磨边机砂轮所留下的磨削沟痕,使镜片边缘表面平滑光洁。A.粗磨B.细磨C.精磨D.抛光

考题 抛光机的操作步骤包括( )。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。A.粗抛和细抛;直角B.粗磨和细磨;直角C.粗抛和细抛;锐角D.粗磨和细磨;锐角

考题 基托抛光后,其表面凹凸不平的主要原因是A、湿布轮使用不当B、细打磨时留下的磨痕C、粗打磨时留下的磨痕D、抛光时转速过高E、没有使用抛光膏

考题 关于打磨力度大小叙述,正确的是A、粗磨>细磨>抛光B、抛光>粗磨>细磨C、抛光>细磨>粗磨D、粗磨>抛光>细磨E、细磨>粗磨>抛光

考题 小钻的加工流程中,成品阶段的细磨抛光工艺应以()。A、粗车为主B、细磨为主C、细磨抛光并重D、抛光为主

考题 须状腰的形成是由于钻石在加工过程中过激的()造成的。A、粗磨B、细磨C、抛光D、锯切

考题 研磨试样分为()A、粗磨B、细磨C、精磨D、粗磨、细磨

考题 金相试样细磨使用砂纸更换原则应是粒度逐渐由粗到细。()

考题 半自动磨边机的监控自动磨边过程不包括()。A、自动粗磨B、自动细磨C、自动磨尖角D、自动抛光

考题 金属镜架表面抛光处理时,抛光轮与抛光蜡使用状况是()A、磨粗:麻轮+黄蜡;抛光:布轮+黄腊。B、磨粗:麻轮+黄蜡;抛光:布轮+白腊;C、磨粗:麻轮+白蜡;抛光:布轮+白腊;D、磨粗:麻轮+白蜡;抛光:布轮+黄腊;

考题 关于打磨力度大小叙述,正确的是()A、粗磨细磨抛光B、抛光粗磨细磨C、抛光细磨粗磨D、粗磨抛光细磨E、细磨粗磨抛光

考题 金相制样时()。A、先用砂纸粗磨、细磨、再抛光B、先用砂纸细磨、粗磨、再抛光C、先用抛光、再用砂纸粗磨、细磨

考题 金相分析检查试样用金相砂纸进行细磨,每更换一道砂纸,试样应转动(),并使前一道的磨削痕迹彻底去除。A、60°B、90°C、180°D、30°

考题 镜片()的目的是去除磨边机砂轮所留下的磨削沟痕,使镜片边缘表面平滑光洁。A、粗磨B、细磨C、精磨D、抛光

考题 抛光机的操作步骤包括()。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。A、粗抛和细抛;直角B、粗磨和细磨;直角C、粗抛和细抛;锐角D、粗磨和细磨;锐角

考题 光整加工包括()。A、精加工、珩磨、研磨、抛光B、超精加工、珩磨、研磨、抛光C、超精加工、珩磨、精镗、抛光D、超精加工、精磨、研磨、抛光

考题 大、中钻的加工流程中,成品阶段的细磨抛光工艺应以()。A、粗车为主B、细磨为主C、细磨抛光并重D、抛光为主

考题 钻石成品阶段主要采用()实施加工。A、粗磨工艺B、细磨工艺C、抛光工艺D、细磨与抛光工艺

考题 单选题研抛的工作步骤可分成()几个阶段。磨料磨粒从粗到细选用。A 粗研—精研B 粗研—细研—精研C 粗研—细研—精研—抛光D 粗研—抛光

考题 单选题半自动磨边机的监控自动磨边过程不包括()。A 自动粗磨B 自动细磨C 自动磨尖角D 自动抛光

考题 单选题基托抛光后,其表面凹凸不平的主要原因是()A 湿布轮使用不当B 细打磨时留下的磨痕C 粗打磨时留下的磨痕D 抛光时转速过高E 没有使用抛光膏

考题 单选题关于打磨力度大小叙述,正确的是(  )。A 粗磨>细磨>抛光B 抛光>粗磨>细磨C 抛光>细磨>粗磨D 粗磨>抛光>细磨E 细磨>粗磨>抛光

考题 单选题镜片()的目的是去除磨边机砂轮所留下的磨削沟痕,使镜片边缘表面平滑光洁。A 粗磨B 细磨C 精磨D 抛光

考题 单选题抛光机的操作步骤包括()。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。A 粗抛和细抛;直角B 粗磨和细磨;直角C 粗抛和细抛;锐角D 粗磨和细磨;锐角

考题 单选题关于打磨力度大小叙述,正确的是()A 粗磨细磨抛光B 抛光粗磨细磨C 抛光细磨粗磨D 粗磨抛光细磨E 细磨粗磨抛光