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判断题
离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部分或绝大部分得到消除，掺入的杂质也能得到一定比例的电激活。
A

对

B

错

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考题 单选题在晶体缺陷理论中外来原子进入晶格就成为晶体中的杂质，这种杂质原子如果取代原来晶体中的原子而进入正常结点的位置称为（）A 取代原子B 空位原子C 杂质原子D 填隙原子
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考题 判断题在晶片制造中，有两种方法可以向硅片中引入杂质元素，即热扩散和离子注入。A 对B 错
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