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在多晶硅电池片上用等离子体进行的化学（）生产氮化硅膜是历来常用的方法。

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考题 目前,制备低温多晶硅常用的方法是什么?
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考题 目前，实现商业化批量生产的、能量转化效率最高的光伏电池类型是（）。A、单晶硅太阳电池；B、多晶硅太阳电池；C、薄膜太阳电池；D、化合物电池。
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考题 介质隔离是以绝缘性能良好的电介质作为“隔离墙”来实现电路中各元器件间彼此电绝缘的一种隔离方法。常用的电介质是（）层。A、多晶硅B、氮化硅C、二氧化硅
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考题 在生产过程中必须使用（）来完成浅沟槽隔离STI。A、单晶硅刻蚀B、多晶硅刻蚀C、二氧化硅刻蚀D、氮化硅刻蚀
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考题 多晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对（）的高选择性。超薄的栅氧化层使得在刻蚀多晶硅电极时对栅氧化层的刻蚀要尽可能的小。A、二氧化硅B、氮化硅C、单晶硅D、多晶硅
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考题 哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。
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考题 在半导体工艺中，与氮化硅比较，二氧化硅更适合应用在（）。A、晶圆顶层的保护层B、多层金属的介质层C、多晶硅与金属之间的绝缘层D、掺杂阻挡层E、晶圆片上器件之间的隔离
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考题 下列组合中哪一种基本上用于刻蚀前者的干刻蚀法大都可以用来刻蚀后者（）。A、二氧化硅氮化硅B、多晶硅硅化金属C、单晶硅多晶硅D、铝铜E、铝硅
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考题 生产多晶硅带的方法主要有定边喂膜法、蹼状枝晶法、绳带法和模板生长法，其中产出率最高的方法为（）
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考题 太阳能电池是由于（）和多晶硅进行叠层得到的新型太阳能电池。
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考题 在多晶硅电池片上用等离子体进行的化学气相沉积法生产的氮化硅膜会产生哪两种效果？
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考题 塑料太阳能电池在导电玻璃基片上形成（）的膜，是在通过在（）下进行焙烧完成。
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考题 通过控制多晶硅电池表面氮化硅的厚度可以使电池表面呈现不同的色彩，其中厚度为210nm的显示的颜色为（）。A、绿色B、蓝色C、黄色D、红色
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考题 目前常用的太阳能光伏电池有：（）、多晶硅电池、非晶硅电池、非硅材料光伏电池、有机光伏电池等等。
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考题 下列太阳能电池中，现批量生产效率最高的是（）。A、单晶硅B、多晶硅C、硅基薄膜电池D、聚光太阳能电池
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考题 在结晶系中，多晶硅电池片的厚度为（）角，单晶硅电池片的厚度为（）角。
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考题 太阳能电池产业链由以下五个环节组成，其中进入壁垒最高的是（）。A、高纯多晶硅原料生产B、单晶硅拉制或多晶硅定向浇铸C、硅片切割D、电池芯片生产
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考题 单晶硅太阳能电池组件的生产流程：（）硅棒（）（）太阳电池组件；多晶硅太阳能电池组件的生产流程：（）硅碇（）硅片太阳电池太阳电池组件。
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考题 在进行移植苗培育时，移植方法生产上常用有孔植、穴植和（）A、覆膜包裹B、地膜覆盖C、遮阴D、沟植
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考题 光伏发电产业链从上游到下游，主要包括的产业链条包括多晶硅、硅片和（）A、电池片及电池组件B、电池片C、电池组件D、发电机
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考题 太阳能光伏产业链中包括多晶硅、硅片、电池片、组件及系统。
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考题 问答题哪种化学气体通常用来刻蚀多晶硅，为什么这种化学气体替代了氟基化学气体？
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考题 问答题哪种化学气体经常用来刻蚀多晶硅？描述刻蚀多晶硅的三个步骤。
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考题 多选题下列属于OECO电池片结构的特点有（）A通过对电池片表面进行机械加工，可以得到深度约有30um的垂直的沟，机械加工后，为了消除损伤，进行了蚀刻，也有再进行纹理化的B在电池片表面的n+层上，形成很薄的氧化膜，然后再在与其上面垂直的沟的侧面制备铝电极，C因表面电极而引起的发电面积损失非常小，减反射膜性能好，电极和硅界面状态良好，可以得到高的转换效率D为了钝化和防止反射，用PECVD法形成SiN膜
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考题 填空题等离子增强反应沉积中，由于等离子体中（）、（）和（）相互碰撞，可以大大降低沉积温度，例如硅烷和氨气的反应在通常条件下，约在850℃左右反应并沉积氮化硅，但在等离子体增强反应的条件下，只需在350℃左右就可以生成氮化硅。
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考题 判断题LPCVD多晶硅和氮化硅等薄膜易形成保形覆盖，在低温APCVD中，非保形覆盖一般比较常见。A 对B 错
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考题 单选题光伏发电产业链从上游到下游，主要包括的产业链条包括多晶硅、硅片和（）A 电池片及电池组件B 电池片C 电池组件D 发电机
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