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在生产过程中必须使用()来完成浅沟槽隔离STI。
- A、单晶硅刻蚀
- B、多晶硅刻蚀
- C、二氧化硅刻蚀
- D、氮化硅刻蚀
参考答案
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考题
硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()A、体刻蚀加工对基体材料进行加工,而面刻蚀加工不对衬底材料进行加工B、体刻蚀加工不对基体材料进行加工,而面刻蚀加工对衬底材料进行加工C、体刻蚀加工可获得高纵横比的结构,而面刻蚀加工只能获得较低纵横比的结构
考题
单选题硅微体刻蚀加工和硅微面刻蚀加工的区别在于()。A
a.体刻蚀加工对基体材料进行加工,而面刻蚀加工不对衬底材料进行加工;B
b.体刻蚀加工不对基体材料进行加工,而面刻蚀加工对衬底材料进行加工;C
c.体刻蚀加工可获得高纵横比的结构,而面刻蚀加工只能获得较低纵横比的结构;
考题
问答题在STI的刻蚀工艺过程中,要注意哪些工艺参数?
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