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（）是以物理的方法来进行薄膜沉积的一种技术。
- A、LPCVD
- B、PECVD
- C、CVD
- D、PVD
参考答案
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考题
刻蚀是把进行光刻前所沉积的薄膜厚度约在数千到数百A之间中没有被（）覆盖及保护的部分，以化学作用或是物理作用的方式加以去除，以完成转移掩膜图案到薄膜上面的目的。A、二氧化硅B、氮化硅C、光刻胶D、去离子水
考题
高速钢表面涂层工艺与硬质合金表面涂层技术类同，有（）两种。A、高温烧结和高温高压烧结B、化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）C、热压法（HP）和热等静压法（HIP）D、电镀法和电铸法
考题
关于高速钢，错误的描述是（）。A、常用来制作切削刃形状复杂的刀具B、其最终热处理方法是高温淬火＋多次高温回火C、其强度和韧性优于硬质合金D、高速钢刀具的表面涂层采用物理气相沉积（PVD.技术
考题
关于高速钢，错误的描述是（）。A、其强度和韧性优于硬质合金B、常用来制作切削刃形状复杂的刀具C、其最终热处理方法是高温淬火＋多次高温回火D、高速钢刀具的表面涂层采用物理气相沉积（PVD）技术
考题
利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A、物理气相沉积（PVD）B、物理气相沉积（CVD）C、化学气相沉积（VCD）D、化学气相沉积（CVD）
考题
单选题利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。A
物理气相沉积（PVD）B
物理气相沉积（CVD）C
化学气相沉积（VCD）D
化学气相沉积（CVD）
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