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下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。

  • A、硼
  • B、锡
  • C、锑
  • D、磷
  • E、砷

参考答案

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考题 半导体硅常用的施主杂质是（）。A、锡B、硫C、硼D、磷
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考题 对于锗和硅半导体来说，最常用的另一类杂质是（）、（）和（）等元素。这些元素加入后，半导体变成P型半导体了。
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考题 在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质，在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新的杂质补充，这种扩散方式称为：（）
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考题 下列材料属于N型半导体是（）。A、硅中掺有元素杂质磷（P）、砷（As）B、硅中掺有元素杂质硼B.、铝（Al）C、砷化镓掺有元素杂质硅（Si）、碲（TE）D、砷化镓中掺元素杂质锌、镉、镁
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考题 半导体硅常用的受主杂质是（）。A、锡B、硫C、硼D、磷
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考题 霍尔元件是根据霍尔效应原理制成的磁电转换元件，常用（）及锑化铟等半导体材料制成。A、锗B、硅C、砷化镓D、砷化铟
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考题 根据扩散原理，将三价（硼）或五价（磷）杂质原子掺入到硅半导体材料中（）A、 温度越高，掺杂越快B、 温度越低，掺杂越快C、 温度恒定，掺杂最快D、 掺杂快慢与温度无关
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考题 在本征半导体中掺入微量的磷、锑、砷（）杂质时的半导体，称为（）。
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考题 在半导体中掺入施主杂质，其将成为N型半导体。
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考题 单选题如果杂质既有施主的作用又有受主的作用，则这种杂质称为（）。A 施主B 受主C 复合中心D 两性杂质
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考题 填空题SiO2-Si界面的杂质分凝：（）过程中，（）在两种材料中重新分布，（）吸引受主杂质（B）、排斥施主杂质（P、As）。
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考题 问答题施主杂质和受主杂质的含义是什么？
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考题 单选题施主杂质和受主杂质之间有相互抵消作用，通常称为（）A 杂质电离B 杂质补偿C 载流子复合D 载流子迁移
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考题 单选题二氧化硅膜能有效的对扩散杂质起掩蔽作用的基本条件有哪些（）      ①杂质在硅中的扩散系数大于在二氧化硅中的扩散系数  ②杂质在硅中的扩散系数小于在二氧化硅中的扩散系数  ③二氧化硅的厚度大于杂质在二氧化硅中的扩散深度  ④二氧化硅的厚度小于杂质在二氧化硅中的扩散深度A ②④B ①③C ①④D ②③
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考题 问答题杂质在硅中的扩散方式有哪些？
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考题 填空题（）和（）是半导体器件的最常用掺杂方法。（）、（）是Si常用的施主杂质；（）是Si常用的受主杂质；（）是GaAs常用的P型掺杂剂；（）是GaAs常用的N型掺杂剂。
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考题 问答题什么是施主杂质能级？什么是受主杂质能级？它们有何异同？
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