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填空题
常规的硅材料抛光方式有:()抛光,()抛光,()抛光等。

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考题 喷砂抛光机的工作原理是A、高频振荡抛光B、物理抛光C、电化学抛光D、超声波抛光E、电动抛光

考题 镜片的抛光的设备为()。A.低速抛光机B.中速抛光机C.高速抛光机D.超高速抛光机

考题 利用含有微细玻璃球的高速干燥流对被抛光表面进行喷射,去除表面微量金属材料,降低表面粗糙度,这种加工方法称()。A、喷丸抛光B、喷沙抛光C、电化学抛光D、超声波抛光

考题 有一种抛光方法,抛光后能得到的表面粗糙度一般为数10μm,它不需要复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,效率很高,它的难点是配制抛光液复杂。这种方法是()。A、化学抛光B、超声波抛光C、磁研磨抛光D、机械抛光

考题 制备奥氏体不锈钢试样,采用()有很大优越性。A、机械抛光B、电解抛光C、化学抛光D、浸蚀—机械抛光交替进行

考题 抛光轮材料越硬,抛光效率越高。

考题 板材抛光机与金属抛光机最大的不同是板材抛光机的()A、抛光轮较大;B、抛光轮较小;C、电机转速较小;D、电机转速较大。

考题 抛光盘和抛光剂的配合对某种宝石的抛光效果显著。

考题 抛光时抛光剂的供给越多,抛光效率越快。

考题 木制地板使用地面抛光剂时,最好是使用()A、水性抛光剂B、水基型抛光剂C、溶剂型抛光剂D、油性抛光剂

考题 关于打磨力度大小叙述,正确的是()A、粗磨细磨抛光B、抛光粗磨细磨C、抛光细磨粗磨D、粗磨抛光细磨E、细磨粗磨抛光

考题 精密模具的镜面加工,主要是以()为主。A、化学抛光B、超声波抛光C、磁研磨抛光D、机械抛光

考题 有一种抛光方法,它是依靠高速流动的液体及其携带的磨粒冲刷工件表面达到抛光的目的,这种抛光方法叫()。A、化学抛光B、超声波抛光C、流体抛光D、机械抛光

考题 与化学抛光相比,电化学抛光的特点是()。A、抛光后的工件表面更光亮B、抛光溶液使用寿命更长C、不产生N(黄烟)等有害气体D、可以抛光形状更复杂的工件

考题 对硬质合金的抛光方法是()。A、磨削式抛光B、腐蚀性抛光C、电解式抛光D、化学抛光

考题 雅洁常规锌合金小拉手抛光工艺包括()A、打披锋、打毛刺B、研磨C、粗抛光D、精抛光

考题 集成电路的主要制造流程是()A、硅抛光片——晶圆——芯片——集成电路——成品测试B、硅抛光片——芯片——晶圆——成品测试——集成电路C、晶圆——硅抛光片——芯片——成品测试——集成电路D、硅抛光片——芯片——晶圆——集成电路——成品测试

考题 抛光材料一般有();()、抛光蜡、去污增光剂等。

考题 硅片抛光在原理上不可分为()A、机械抛光法B、化学抛光法C、手工抛光法D、机械--化学抛光法

考题 填空题抛光材料一般有();()、抛光蜡、去污增光剂等。

考题 单选题宝业厂的抛光属于以下哪种抛光()A 电解抛光B 化学抛光C 磨光D 电解与化学抛光

考题 填空题常规的硅材料抛光方式有:()抛光,()抛光,()抛光等。

考题 单选题利用超声振动的能量,通过机械装置对型腔表面进行抛光加工的工艺方法是()。A 手工抛光B 机械抛光C 超声波抛光D 挤压抛光

考题 单选题硅片抛光在原理上不可分为()A 机械抛光法B 化学抛光法C 手工抛光法D 机械--化学抛光法

考题 单选题下面不属于手工抛光的是()。A 用砂纸抛光B 用油石抛光C 研磨D 挤压抛光

考题 填空题常用的研磨抛光方法有:手工研磨抛光、电化学抛光、超声波抛光和()

考题 单选题挤压研磨抛光的特点是()。A 适用范围小,但抛光效果好,研磨抛光效率高B 适用范围广,抛光效果好,研磨抛光效率高C 适用范围广,抛光效果一般,但研磨抛光效率高D 适用范围广,抛光效果好,但研磨抛光效率低

考题 单选题集成电路的主要制造流程是()A 硅抛光片——晶圆——芯片——集成电路——成品测试B 硅抛光片——芯片——晶圆——成品测试——集成电路C 晶圆——硅抛光片——芯片——成品测试——集成电路D 硅抛光片——芯片——晶圆——集成电路——成品测试