考题
在金属罐壁做内防腐时，用( )抛光被涂层表面。A、砂纸B、人工C、磨砂机D、抛光机
考题
基托抛光后，其表面凹凸不平的主要原因是A、湿布轮使用不当B、细打磨时留下的磨痕C、粗打磨时留下的磨痕D、抛光时转速过高E、没有使用抛光膏
考题
关于打磨力度大小叙述，正确的是A、粗磨>细磨>抛光B、抛光>粗磨>细磨C、抛光>细磨>粗磨D、粗磨>抛光>细磨E、细磨>粗磨>抛光
考题
抛光质量包括钻石（）有关内容。A、抛光纹B、表面纹理C、烧痕D、抛光纹与烧痕
考题
钻石因抛光不当在其表面留下糊状疤痕称（）。A、击痕B、烧痕C、激光痕D、抛光痕
考题
车钻过程可细分（）。A、粗车、精车、打边B、粗车、打边、抛光C、精车、打边、抛光D、粗车、精车、抛光
考题
依蜡皮膜结构分类，蜡可分为（）两大类。A、标准型蜡B、抛光用蜡C、乳化型蜡D、抛光、去污兼用蜡E、封锁型蜡
考题
金属镜架表面抛光处理时，抛光轮与抛光蜡使用状况是（）A、磨粗：麻轮+黄蜡；抛光：布轮+黄腊。B、磨粗：麻轮+黄蜡；抛光：布轮+白腊；C、磨粗：麻轮+白蜡；抛光：布轮+白腊；D、磨粗：麻轮+白蜡；抛光：布轮+黄腊；
考题
关于打磨力度大小叙述，正确的是（）A、粗磨细磨抛光B、抛光粗磨细磨C、抛光细磨粗磨D、粗磨抛光细磨E、细磨粗磨抛光
考题
金相制样时（）。A、先用砂纸粗磨、细磨、再抛光B、先用砂纸细磨、粗磨、再抛光C、先用抛光、再用砂纸粗磨、细磨
考题
抛光机的操作步骤包括（）。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。A、粗抛和细抛；直角B、粗磨和细磨；直角C、粗抛和细抛；锐角D、粗磨和细磨；锐角
考题
金属眼镜配件抛光常用的抛光蜡是（）A、黄蜡；B、绿蜡；C、白蜡；D、石蜡。
考题
抛光蜡主要用于（）。A、硝基漆抛光B、过氨乙烯漆抛光C、涂层表面上光D、虫胶漆抛光
考题
光蜡主要用于（）A、硝基漆抛光B、过氨乙烯漆抛光C、涂层表面上光D、虫胶漆抛光
考题
金相试验中试样细磨后还需要进一步抛光，抛光的目的是为了去除细磨时留下的细微磨痕而获得光亮的镜面，以下不属于金相试样的抛光方法的是（）A、机械抛光B、侵蚀抛光C、电解抛光D、化学抛光
考题
抛光材料一般有（）；（）、抛光蜡、去污增光剂等。
考题
抛光时，抛光推进速度以保持在50米/分为宜，来回抛光（）次，直至（）为止。A、3—5，光亮B、5—8，光滑C、2—3，均匀D、8—10，没蜡迹
考题
填空题抛光材料一般有（）；（）、抛光蜡、去污增光剂等。
考题
单选题下面不属于手工抛光的是（）。A
用砂纸抛光B
用油石抛光C
研磨D
挤压抛光
考题
单选题基托抛光后，其表面凹凸不平的主要原因是（）A
湿布轮使用不当B
细打磨时留下的磨痕C
粗打磨时留下的磨痕D
抛光时转速过高E
没有使用抛光膏
考题
单选题关于打磨力度大小叙述，正确的是（ ）。A
粗磨＞细磨＞抛光B
抛光＞粗磨＞细磨C
抛光＞细磨＞粗磨D
粗磨＞抛光＞细磨E
细磨＞粗磨＞抛光
考题
单选题在修饰中，用2500号砂纸打磨脏点，然后向四周过渡，对没有脏点缺陷的地方也进行轻微打磨。目的是消除（）A
抛光亮痕B
打磨痕C
消除手指沟D
消除抛光雾影
考题
多选题涂膜表面流挂的处理措施（）。A抛光即可B清度流挂用砂纸研磨后抛光和修补C全面流挂，彻底打磨后重新涂装
考题
多选题依蜡皮膜结构分类，蜡可分为（）两大类。A标准型蜡B抛光用蜡C乳化型蜡D抛光、去污兼用蜡E封锁型蜡
考题
单选题抛光机的操作步骤包括（）。抛光时镜片与抛光轮呈{.XZ}状态。A
粗抛和细抛；直角B
粗磨和细磨；直角C
粗抛和细抛；锐角D
粗磨和细磨；锐角
考题
单选题关于打磨力度大小叙述，正确的是（）A
粗磨细磨抛光B
抛光粗磨细磨C
抛光细磨粗磨D
粗磨抛光细磨E
细磨粗磨抛光