网友您好， 请在下方输入框内输入要搜索的题目：
题目内容
（请给出正确答案）
问答题
列出并描述光刻中使用的两种UV曝光光源。
参考答案
参考解析
解析：
暂无解析
更多 “问答题列出并描述光刻中使用的两种UV曝光光源。” 相关考题
考题
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度
考题
下面对于CTP技术的描述中不正确的是（）。A、CTP所采用的激光光源按其光谱特性可分为可见光源、红外光源、紫外线光源B、采用CTP技术可有效缩短印刷准备时间，充分提高印刷效率C、热敏CTP版材可以实现明室操作印刷包装城D、UV-CTP版材可采用紫外光曝光，因此不属于CTP版材
考题
下列关于AAS与UV－VIS区别的叙述中，错误的是（）。A、AAS法是原子吸收线状光谱；UV－VIS法是分子吸收带状光谱B、AAS法是连续光源（钨灯、氘灯）；UV－VIS法是锐线光源（空心阴极灯）C、AAS法仪器排列顺序为锐线光源→原子化器→单色器→检测器D、UV－VIS法仪器排列顺序为光源→单色器→吸收池→检测器
考题
多选题以下属于光刻工艺的为：（）。A光刻胶涂覆B曝光C显影D腐蚀
热门标签
最新试卷