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问答题
化学气相沉积和物理气相沉积的基本原理是什么?
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考题
利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A、物理气相沉积(PVD)B、物理气相沉积(CVD)C、化学气相沉积(VCD)D、化学气相沉积(CVD)
考题
单选题利用气态化合物(或化合物的混合物)在基体受热表面发生化学反应,并在该基体表面生成固态沉积物的技术称()。A
物理气相沉积(PVD)B
物理气相沉积(CVD)C
化学气相沉积(VCD)D
化学气相沉积(CVD)
考题
问答题比较磁控溅射法与化学气相沉积法的特点是什么?
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