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光刻的目的是将电路图形转移到覆盖于硅片表面的光刻胶上。
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考题
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度
考题
问答题在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
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