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在UO2+x晶体中,当氧分压不变时,温度增加,缺陷浓度 ,晶体密度 。

A.增加,增加

B.增加,降低

C.降低,降低

D.降低,增加


参考答案和解析
增加
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考题 当血糖浓度高于肾糖阈时,尿量增加是由于( )。A.血浆晶体渗透压升高B.肾小管内晶体渗透压升高C.肾小管内晶体渗透压降低D.集合管对水的通透性增加E.肾小管液中溶质浓度增加

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考题 UO2+x在氧化气氛中可形成()型非计量化合物,可形成()型半导体,缺陷浓度与氧分压的1/6次方成(),如果减少周围氧气的分压,UO2+x的密度将()

考题 晶体的热缺陷有()两类,热缺陷浓度与温度的关系式为()

考题 简述温度、固溶体类型、晶体结构、晶体学各向异性、浓度、晶体缺陷、第三元对扩散系数的影响及其原因。

考题 关于溶质饱和度,下列说法正确的是()A、在某一温度下,饱和度是恒定的B、当溶质浓度超过饱和度时,立即析出晶体C、在相同条件下,溶质晶体的半径越小,饱和浓度越大D、饱和度随温度升高而显著增大

考题 晶体管参数受温度影响较大,当温度升高时,晶体管的β,ICBO,uBE的变化情况为()A、β增加,ICBO,和 uBE减小B、β和ICBO增加,uBE减小C、β和uBE减小,ICBO增增加D、β、ICBO和uBE都增加

考题 在杂质半导体中,少数载流子的浓度与()有很大关系。A、温度B、掺杂工艺C、杂质浓度D、晶体管缺陷

考题 晶体管参数受温度影响较大,当温度升高时,晶体管的β,ICBO,uBE的变化情况为()。A、β增加,ICBO和 uBE减小B、β和ICBO增加,uBE减小C、β和uBE减小,ICBO增加D、β、ICBO和uBE都增加

考题 在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于()A、温度B、掺杂工艺C、杂质浓度D、晶体管缺陷

考题 温度增加时,在ID不变的情况下,晶体二极管的VVD(on)将()A、增大B、减小C、不变D、未知

考题 在晶体中存在杂质时对扩散有重要的影响,主要是通过(),使得扩散系数增大。A、增加缺陷浓度B、使晶格发生畸变C、降低缺陷浓度D、A和B

考题 在杂质半导体中,多数载流子的浓度取决于()。A、晶体缺陷B、温度C、杂质浓度D、掺杂工艺

考题 单选题在晶体中存在杂质时对扩散有重要的影响,主要是通过(),使得扩散系数增大。A 增加缺陷浓度B 使晶格发生畸变C 降低缺陷浓度D A和B

考题 填空题晶体产生Frankel缺陷时,晶体体积(),晶体密度();而有Schtty缺陷时,晶体体积(),晶体密度()。一般说离子晶体中正、负离子半径相差不大时,()是主要的;两种离子半径相差大时,()是主要的。

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