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填空题
每一类晶体管都是由基区、发射区和()三个不同的导电区域构成的。

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考题 晶体三极管由()PN结组成,分成基区、发射区和集电区。 A、一个B、两个C、三个D、四个

考题 晶体管的发射区的作用是向基区发射自由电子,集电区的作用是收集这些自由电子。() 此题为判断题(对,错)。

考题 晶体管的内部放大条件是:发射区重掺杂,基区轻掺杂且宽度很窄,集电极面积大等。()

考题 NPN型晶体管的发射区是()型半导体,集电区是()型半导体,基区是()型半导体。

考题 晶体管的基区之所以做得很薄,是为了减少电子和空穴在基区的复合机会,从而使由发射区进入基区的载流子,绝大部分能进入集电区而形成较大的集电极电流。() 此题为判断题(对,错)。

考题 晶体管能够放大的内部条件是()。 A.两个背靠背的PN结B.自由电子与空穴都参与导电C.有三个掺杂浓度不同的区域D.发射区高掺杂;基区很薄;集电区掺杂浓度低但面积大

考题 晶体管具备电流放大的内部条件是()。 A.基区薄而其杂质浓度低B.基区杂质浓度高C.降低发射区杂质浓度D.加强电子在基区的复合

考题 晶体管的内部结构分为三个区,即发射区、基区和集电区;两个结为发射和集电结。() 此题为判断题(对,错)。

考题 晶体管包含三个区:集电区,()和发射区。

考题 在晶体三极管中掺杂浓度最高的区域是()。A、基区B、集电区C、发射区D、饱和区

考题 三极管是有三层半导体材料组成的,有三个区域,中间的一层为()A、基区B、栅区C、集电区D、发射区

考题 晶体管的内部结构分为三个区,即发射区、基区和集电区;两个结为发射和集电结。

考题 三极管是由三层半导体材料组成的。有三个区域,中间的一层为()。A、基区B、栅区C、集电区D、发射区

考题 晶体管分为三层分别为()A、发射区B、放大区C、集电区D、基区E、扩张区

考题 每一类晶体管都是由基区、发射区和()三个不同的导电区域构成的。

考题 晶体管热噪声主要存在于()电阻内。A、基区B、发射区C、集电区D、发射区和集电区

考题 晶体管具备电流放大的内部条件是()。A、基区薄而其杂质浓度低B、基区杂质浓度高C、降低发射区杂质浓度D、加强电子在基区的复合

考题 三极管的三个工作区域是()。A、饱和区B、反偏区C、放大区D、截止区E、发射区F、基区

考题 叙述晶体三极管电流的传输过程()。A、发射区向基区注入载流子过程B、少数载流子,在基区扩散与复合过程C、集电区收集载流子的过程D、基区向发射区注入载流子过程

考题 造成大电流时晶体管电流放大系数下降的因素有____、集电结空间电荷限制的效应、____。()A、基区电导调制效应,发射区有偏压效应B、基区有偏压效应,发射区电导调制效应C、基区电导调制效应,基区有偏压效应D、发射区有偏压效应,基区有偏压效应

考题 无论是NPN型管还是PNP型管,它们内部均含有三个区,即发射区、基区和()。

考题 晶体管内部由3层半导体材料构成,分别称为发射区、基区和集电区,结合处形成两个PN结,分别称为发射极和集电极。

考题 半导体三极管工作过程中()。A、发射区杂质浓度大于基区杂质浓度;B、发射区杂质浓度小于基区杂质浓度;C、发射区杂质浓度等于基区杂质浓度;D、发射区杂质浓度大于集电区杂质浓度。

考题 三极管有三个PN结和三个区—发射区、集电区、基区。

考题 单选题晶体管是由单层半导体材料组成的。有三个区域,中间的一层为()。A 基区B 栅区C 集电区D 发射区

考题 填空题在异质结双极晶体管中,发射区的禁带宽度()于基区的禁带宽度,从而使异质结双极晶体管的()大于同质结双极晶体管的。

考题 填空题每一类晶体管都是由基区、发射区和()三个不同的导电区域构成的。

考题 填空题晶体管包含三个区:集电区,()和发射区。