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单选题
关于自动曝光控制(AEC)的解释,错误的是()。
A
根据被照体厚薄预先确定曝光量
B
有电离室式探测器
C
AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关
D
有半导体式探测器
E
探测器的采光野位置应根据摄影部位选择
参考答案
参考解析
解析:
分荧光体探测器和电离室控测器。
更多 “单选题关于自动曝光控制(AEC)的解释,错误的是()。A 根据被照体厚薄预先确定曝光量B 有电离室式探测器C AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关D 有半导体式探测器E 探测器的采光野位置应根据摄影部位选择” 相关考题
考题
关于自动曝光控制(AEC)的解释,错误的是A、根据被照体厚薄预先确定曝光量B、有电离室式探测器C、AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关D、有半导体式探测器E、探测器的采光野位置应根据摄影部位选择
考题
关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是A、被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B、半导体、荧光体3种C、AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D、探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样E、形状、数量应根据摄影部位选择
考题
关于电离室控时自动曝光控制,下列叙述错误的是
A.利用气体的电离效应B.X线强度大时,电离电流大C.X线强度大时,曝光时间长D.电容充电电流与X线曝光量呈反比E.电离电流小时,曝光时间长
考题
关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是A.被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B.探测器有电离室式、半导体、荧光体三种C.AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D.探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样E.探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择
考题
关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是()A、被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B、探测器有电离室式、半导体、荧光体3种C、AEC的管电压特性与所用屏-片体系的管电压特性有关D、探测器置于屏-片体系之前还是之后,效果不一样E、探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择
考题
关于-DSA自动曝光的叙述,错误的是()A、有光电管自动曝光控制B、有电离室自动曝光控制C、光电管自动曝光控制的基础是荧光效应D、电离室自动曝光控制的基础是电离效应E、-DSA检查一般选择手动曝光条件
考题
下列关于[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]说法错误的是()。A、[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[线性曝光控制(LinearExposureControl)]的效果会更加柔和B、[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[线性曝光控制(LinearExposureControl)]会更不容易产生曝光的效果C、[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[线性曝光控制(LinearExposureControl)]对比会更强烈D、[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[线性曝光控制(LinearExposureControl)]更适合制作动画
考题
单选题下列关于[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]说法错误的是()。A
[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[线性曝光控制(LinearExposureControl)]的效果会更加柔和B
[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[线性曝光控制(LinearExposureControl)]会更不容易产生曝光的效果C
[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[线性曝光控制(LinearExposureControl)]对比会更强烈D
[对数曝光控制(LogarithmicExposureControl)]相比[线性曝光控制(LinearExposureControl)]更适合制作动画
考题
单选题关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是()。A
被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B
半导体、荧光体3种C
AEC的管电压特性与所用屏胶体系的管电压特性有关D
探测器置于屏胶体系之前还是之后,效果不一样E
形状、数量应根据摄影部位选择
考题
单选题关于自动曝光量控制(AEC)的叙述,错误的是()A
被照体很薄时,AEC也可立即切断X线B
探测器有电离室式、半导体、荧光体3种C
AEC的管电压特性与所用屏-片体系的管电压特性有关D
探测器置于屏-片体系之前还是之后,效果不一样E
探测器的探测野位置、形状、数量应根据摄影部位选择
考题
单选题关于-DSA自动曝光的叙述,错误的是()A
有光电管自动曝光控制B
有电离室自动曝光控制C
光电管自动曝光控制的基础是荧光效应D
电离室自动曝光控制的基础是电离效应E
-DSA检查一般选择手动曝光条件
考题
单选题关于自动曝光控制(AEC)的解释,错误的是()。A
根据被照体厚薄预先确定曝光量B
有电离室式探测器C
AEC的管电压特性与所用屏/片体系的管电压特性有关D
有半导体式探测器E
探测器的采光野位置应根据摄影部位选择
考题
单选题不符合胸部正位成像技术条件标准的是()。A
管电压取70~80kVpB
滤线栅取10∶1以上的栅比C
选用大宽容度屏/片组合,相对感度400D
3.0mm铝E
采用自动曝光控制(AEC)
考题
单选题关于DSA摄影条件的描述,错误的是( )。A
X线剂量与密度分辨力成正比B
DSA的曝光参数分为“自动曝光”和“手动曝光”C
对密度高且厚的部位常选用“自动曝光”方式D
选用测试曝光可以帮助选择最合适的曝光条件E
对密度低且薄的部位常选用“自动曝光”方式
考题
单选题预曝光方式AEC的工作环节,错误的是()A
根据压迫厚度设定条件B
进行一次15毫秒的预曝光C
探测乳腺的组织密度D
据此设定所需的mAs值E
正式曝光并自动终止
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