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掺杂半导体中影响电子电导率的主要因素是()、()、和()。


参考答案

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考题 下列物质中载流子最多的是()。A.本征半导体B.掺杂半导体C.导体D.绝缘体

考题 半导体中的离子注入掺杂是把掺杂剂()加速到的需要的(),直接注入到半导体晶片中,并经适当温度的()。

考题 迁移率是反映半导体中载流子导电能力的重要参数。掺杂半导体的电导率一方面取决于掺杂的浓度,另一方面取决于迁移率的大小。同样的掺杂浓度,载流子的迁移率越大,材料的电导率就越高。()

考题 本征半导体中掺入少量三价元素,构成的是P型掺杂半导体,其中多数的载流子是()型;若在本征半导体中掺入少量的()元素,构成的是()型半导体,其中多数载流子是()。

考题 半导体工艺中,掺杂有哪几种方式?

考题 以下掺杂半导体中属于n型的是()A、In掺杂的GeB、As掺杂的GeC、InSb中,Si占据Sb的位置D、GaN中,Mg占据Ga的位置

考题 影响玻璃(体积)电导率的主要因素有哪些?

考题 如何根据电导率的影响来判断半导体类型和吸附状态。

考题 影响离子电导率的主要因素有()、()、()、()。

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考题 半导体的压阻效应与掺杂度、温度、材料类型和半导体的晶向有关。

考题 在本征半导体中掺入少量三价元素,构成的是()型掺杂半导体,其中多数的载流子是();若在本征半导体中掺入少量的五价元素,构成的是()型半导体,其中多数载流子是()。

考题 下列掺杂半导体属于n型半导体的是()A、In掺杂的GeB、As掺入GeC、As掺入SiD、InSb中,Si占据Sb的位置E、GaN中,Mg占据Ga的位置

考题 N型半导体中的自由电子是()形成的。A、掺杂B、能量击发C、掺杂与能量击发

考题 杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于()。A、温度B、掺杂工艺C、掺杂浓度D、晶格缺陷

考题 半导体中多数载流子的浓度是由掺杂浓度决定的

考题 杂质半导体中的多数载流子是由掺杂产生的,少数载流子是由()产生的。

考题 在杂质半导体中,少数载流子的浓度取决于()A、温度B、掺杂元素C、掺杂浓度D、掺杂工艺

考题 在半导体中掺入微量的有用杂质,制成掺杂半导体。掺杂半导体有()。A、W型B、N型有P型C、U型

考题 半导体有三个主要特征()、()和掺杂特征。

考题 下列物质中载流子最多的是()。A、本征半导体B、掺杂半导体C、导体D、绝缘体

考题 在半导体中掺人微量的有用杂质,制成掺杂半导体。掺杂半导体有()。A、W型B、N型有P型C、U型D、V型

考题 单选题杂质半导体中少数载流子浓度()A 与掺杂浓度和温度无关B 只与掺杂浓度有关C 只与温度有关D 与掺杂浓度和温度有关

考题 填空题本征半导体中掺入少量三价元素,构成的是P型掺杂半导体,其中多数的载流子是()型;若在本征半导体中掺入少量的()元素,构成的是()型半导体,其中多数载流子是()。

考题 问答题什么是掺杂?为什么掺杂后的共轭高聚物的电导率可大幅度提高?

考题 问答题半导体工艺中,掺杂有哪几种方式?

考题 问答题简述半导体中浅能级和深能级掺杂对半导体的导电有何影响?