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离子注入后为何退火?

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考题 焊后热处理是指()。A高温退火B中温退火C低温退火

考题 离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的()。A、能量B、剂量

考题 热退火用于消除离子注入造成的损伤,温度要低于杂质热扩散的温度,然而,杂质纵向分布仍会出现高斯展宽与拖尾现象,解释其原因。

考题 离子注入层的深度主要取决于离子注入的()。A、能量B、剂量

考题 离子注入后为什么要进行退火?

考题 离子注入

考题 通常浇铸出砂后的铸铁都要进行退火,用得最普遍的是进行()。A、扩散退火B、完全退火C、不完全退火D、去应力退火

考题 15钢板冷变形后应进行的热处理工艺是()。 A、完全退火B、低温退火C、再结晶退火D、球化退火

考题 连杆锻造成型后应采用()。 A、完全退火B、不完全退火C、再结晶退火D、低温退火

考题 工件焊接后应进行()。A、重结晶退火B、去应力退火C、再结晶退火D、扩散退火

考题 玻璃成型后为何还要退火?

考题 ()就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面,使其中离子注入层在极短的时间内达到高温,消除损伤。A、热退火B、激光退火C、连续激光退火D、脉冲激光退火

考题 均匀化退火后的组织晶粒往往较为粗大,需进行()处理。A、完全退火B、低温退火C、球化退火D、等温退火

考题 问答题玻璃成型后为何还要退火?

考题 判断题离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格,高温退火过程能使硅片中的损伤部分或绝大部分得到消除,掺入的杂质也能得到一定比例的电激活。A 对B 错

考题 问答题离子注入后退火的作用是什么?

考题 问答题离子注入后为什么要退火,高温退火和快速热处理哪个更优越,为什么?

考题 问答题为什么晶体晶格离子注入工艺后需要高温退火?使用RTA退火有什么优点?

考题 问答题离子注入后为什么要进行退火?

考题 单选题均匀化退火后的组织晶粒往往较为粗大,需进行()处理。A 完全退火B 低温退火C 球化退火D 等温退火

考题 问答题简述离子注入退火目的与方法。

考题 问答题离子注入后的RTA流程

考题 单选题连杆锻造成型后应采用()A 完全退火B 不完全退火C 再结晶退火D 低温退火

考题 单选题离子注入与热扩散相比,哪个横向效应小()A  离子注入B  热扩散

考题 问答题离子注入后进行退火工艺的原因是什么?

考题 问答题为何在离子注入后, 需要热处理( Thermal Anneal)的工艺?

考题 单选题焊后热处理是指()。A 高温退火B 中温退火C 低温退火