网友您好, 请在下方输入框内输入要搜索的题目:

题目内容 (请给出正确答案)
填空题
晶体中五种扩散机制为()、()、()、()和(),其中()是离子晶体中最常见的扩散机制,其扩散活化能包括()和()。

参考答案

参考解析
解析: 暂无解析
更多 “填空题晶体中五种扩散机制为()、()、()、()和(),其中()是离子晶体中最常见的扩散机制,其扩散活化能包括()和()。” 相关考题
考题 物质传递基本方式有()。A、离子扩散和对流扩散B、分子扩散和离子扩散C、分子扩散和对流扩散D、传质扩散和对流扩散

考题 物质传递的基本方式有()。A、离子扩散和对流扩散B、分子扩散和离子扩散C、分子扩散和对流扩散D、传质扩散和对流扩散

考题 一般晶体中的扩散为()。A、空位扩散B、间隙扩散C、易位扩散D、A和B

考题 扩散相与扩散介质性质差异越大,()。A、扩散活化能越大B、扩散系数越大C、扩散活化能不变D、扩散系数越小

考题 空位扩散是指晶体中的空位跃迁入邻近原子,而原子反向迁入空位,这种扩散机制适用于()的扩散A、各种类型固溶体B、间隙型固溶体C、置换型固溶体D、A和B

考题 试分析离子晶体中,阴离子扩散系数-般都小于阳离子扩散系数的原因。

考题 根据晶体生长扩散学说,晶体的生长包括()、()和()三个过程。

考题 氟化镧晶体离子选择性电极膜电位的产生是由于()A、氟离子进入晶体膜表面的晶格缺陷形成双电层B、氟离子在晶体膜表面氧化而传递电子C、氟离子穿透晶体膜使膜内外产生浓度差形成双电层D、氟离子在晶体膜表面进行离子交换和扩散形成双电层

考题 扩散硅式压力变送器的工作主要是基于()。A、硅晶体的压阻效应B、硅晶体的扩散效应C、硅晶体的应变效应D、硅晶体的半导体特性

考题 在晶体扩散模型中,()和()是最重要的两种扩散机制。

考题 由于处于晶格位置和间隙位置的粒子势能的不同,在易位扩散、间隙扩散和空位扩散三种机制中,其扩散活化能的大小为()。A、易位扩散=间隙扩散空位扩散B、易位扩散间隙扩散=空位扩散C、易位扩散间隙扩散空位扩散D、易位扩散间隙扩散空位扩散

考题 简述扩散的原因及晶体材料的扩散机制。

考题 填空题在晶体扩散模型中,()和()是最重要的两种扩散机制。

考题 单选题扩散过程与晶体结构有密切的关系,扩散介质结构(),扩散()。A 越紧密;越困难B 越疏松;越困难C 越紧密;活化能越小D 越疏松;活化能越大

考题 名词解释题晶体中的扩散

考题 填空题杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种,分别是()扩散和()扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分,即(),才有助于形成半导体硅。

考题 填空题本征扩散的扩散系数D=(),其扩散活化能由()和()组成。

考题 问答题试分析离子晶体中,阴离子扩散系数-般都小于阳离子扩散系数的原因。

考题 填空题根据晶体生长扩散学说,晶体的生长包括()、()和()三个过程。

考题 填空题本征扩散是指(),其扩散系数D=(),其扩散活化能由()和()组成。

考题 单选题晶体的表面扩散系数Ds、界面扩散系数Dg和体积扩散系数Db之间存在()的关系。A DsDgDbB DbC.DgDsDbC Dg

考题 单选题一般晶体中的扩散为()。A 空位扩散B 间隙扩散C 易位扩散D A和B

考题 单选题某晶体材料的扩散系数lnD与1/T关系曲线在不同温度区间出现了不同斜率的直线,这主要是由于()所致。A 扩散系数不同B 扩散活化能不同C 扩散机构改变D 扩散温度不同

考题 判断题杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种:间隙式扩散、替位式扩散。其中间隙式扩散比替位式扩散困难。A 对B 错

考题 单选题由于处于晶格位置和间隙位置的粒子势能的不同,在易位扩散、间隙扩散和空位扩散三种机制中,其扩散活化能的大小为()。A 易位扩散=间隙扩散空位扩散B 易位扩散间隙扩散=空位扩散C 易位扩散间隙扩散空位扩散D 易位扩散间隙扩散空位扩散

考题 单选题空位扩散是指晶体中的空位跃迁入邻近原子,而原子反向迁入空位,这种扩散机制适用于()的扩散A 各种类型固溶体B 间隙型固溶体C 置换型固溶体D A和B

考题 填空题离子在晶体中扩散是通过()的方式进行的。