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光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种？（）。

A．压印式光刻

B．投影式光刻

C．接近式光刻

D．接触式光刻

参考答案和解析
接触式光刻;接近式光刻;投影式光刻
更多 “光刻技术中的曝光方式主要包括下面哪几种？（）。A．压印式光刻B．投影式光刻C．接近式光刻D．接触式光刻” 相关考题
考题 根据曝光方式的不同，光学光刻机可以分成几类？各有什么优缺点？
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考题 光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。
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考题 光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。A、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、去胶B、涂胶、前烘、坚膜、曝光、显影、去胶C、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶D、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、去胶
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考题 在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。A、DQNB、CAC、ARCD、PMMA
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考题 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。A、CA光刻胶对深紫外光吸收小B、CA光刻胶将吸收的光子能量发生化学转化C、CA光刻胶在显影液中的可溶性强D、有较高的光敏度E、有较高的对比度
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考题 试分析在背沟道阻挡结构的第二次光刻中，采用了背曝光为什么还要采用一次曝光？直接使用一次曝光不行吗？
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考题 光刻加工的工艺过程为（）A、①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C、①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
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考题 例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。
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考题 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。A、化学增强B、化学减弱C、厚度增加D、厚度减少
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考题 光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）A、电子束曝光技术B、离子束曝光技术C、X射线曝光技术
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考题 问答题光刻的曝光方式有几种？各有何特点？
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考题 单选题光刻加工的工艺过程为：（）A ①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗B ①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散C ①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原
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考题 问答题光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？
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考题 判断题如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。A 对B 错
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考题 问答题列举下一代光刻技术中4种正在研发的光刻技术。
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考题 填空题光学光刻机的主要曝光光线的是波长为（）的g线和（）的i线，适合1微米以上特征尺寸的光刻。常用（）的KrF和（）的ArF准分子激光做1微米以下特征尺寸的光刻光源。
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考题 填空题集成电路制造工艺技术主要包括：热工艺、（）、光刻、清洗与刻蚀、金属化、表面平坦化。
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考题 填空题光刻胶的三种主要成分是：（）。正胶的感光剂是（），曝光使其（），正胶的曝光区在显影后（）； 曝光使负胶的感光剂（），使曝光区在显影后（）。
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考题 判断题先进集成电路加工中，主要采用投影式光刻曝光技术。A 对B 错
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考题 问答题典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少？
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考题 填空题光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
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考题 问答题常见的光刻对准曝光设备有？
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考题 填空题光刻的图形曝光方式有：接触式曝光、接近式曝光和（）曝光。
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考题 问答题列出并描述光刻中使用的两种UV曝光光源。
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考题 问答题例举并描述光刻中使用的两种曝光光源。
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考题 单选题光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。A 电子束曝光技术B 离子束曝光技术C X射线曝光技术
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考题 问答题光刻加工技术的基本过程通常包括哪些步骤？
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考题 多选题以下属于光刻工艺的为：（）。A光刻胶涂覆B曝光C显影D腐蚀
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