考题
X线成像相关的特性中，"X线能穿透可见光不能穿透的物体，在穿透过程中被穿透物体吸收部分X线"属于A.X线B.荧光效应C.感光效应D.电离效应E.X线的衰减
考题
简述X射线荧光分析中的基体效应，以及克服或校正基体效应的方法。
考题
X射线荧光光谱分析康普顿散射线内标法不能校正基体的吸收效应，只能校正增强效应。
考题
在X射线荧光分析中，当样品研磨到极细时，则（）基本消失；将样品制成薄层并薄到临界厚度以下时，分析线所受的（）与样品的组成无关。A、均匀性B、粒度效应C、辐射D、吸收-增强效应
考题
X射线荧光光谱分析中，适当选择分析晶体是消除谱线重叠干扰方法之一。
考题
以下哪种X线特性是X线成像中最基础的特性（）A、穿透性B、荧光效应C、摄影效应D、电离效应E、反光作用
考题
当对技术要求严格或者对结果有争议时，一般采取以下哪种材质分析方法进行检验（）A、化学分析法B、X射线荧光分析法C、发射光谱法D、原子吸收光谱法
考题
X射线荧光光谱分析中，当基体效应是增强效应时，将使所得被测元素的结果偏低。
考题
基体效应包括吸收和增强两种效应。消除基体效应的方法有（）法等。A、稀释B、薄膜样品C、吸收校正D、数学处理
考题
X射线荧光分析粉末试样时，采用玻璃熔片法可以消除（）带来的分析误差。A、粒度效应B、吸收C、增强D、矿物效应
考题
在X荧光分析中以下哪种方法不能消除吸收-增强效应（）。A、内标法B、数学校正法C、滤波D、稀释法
考题
原子吸收的定量方法——标准加入法，消除了下列哪种干扰？（）A、分子吸收B、背景吸收C、光散射D、基体效应
考题
简述X射线荧光光谱定量分析的基体效应？如何消除？
考题
X荧光分析中，下边哪种方法不能降低背景（）。A、A、激发条件（Kv，m尽可能高
考题
在原子吸收光谱法中，下列（）的方法不能消除背景干扰的影响。A、用次灵敏线作为分析线B、用氘灯进行校正C、用自吸收进行校正D、用塞曼效应进行校正
考题
X线成像相关的特性中，“X线能穿透可见光不能穿透的物体，在穿透过程中被穿透物体吸收部分X线”属于（）A、X线B、荧光效应C、感光效应D、电离效应E、X线的衰减
考题
原子吸收分析的定量方法—标准加入法消除了下列哪种干扰？（）A、基体效应B、背景吸收C、光散射D、谱线干扰
考题
在X荧光分析中，将物料进一步磨细的目的是（）。A、消除颗粒效应B、便于压片C、消除元素效应
考题
用标准加入法进行原子吸收定量分析，主要消除下列哪种干扰（）.A、分子吸收B、光散射C、基体效应
考题
下述哪种分析方法是以散射光谱为基础的（）A、原子发射光谱B、拉曼光谱C、原子吸收光谱D、X荧光光谱法
考题
用内标法进行X射线荧光定量分析可消除基体效应，内标物满足什么条件？
考题
问答题简述X射线荧光分析中的基体效应，以及克服或校正基体效应的方法。
考题
单选题X线成像相关的特性中，"X线能穿透可见光不能穿透的物体，在穿透过程中被穿透物体吸收部分X线"属于（）A
X线B
荧光效应C
感光效应D
电离效应E
X线的衰减
考题
问答题为了消除X射线荧光定量分析时的基体效应，除了内标法和标准加入法外，还有哪几种方法？
考题
单选题在X荧光分析中，将物料进一步磨细的目的是（）。A
消除颗粒效应B
便于压片C
消除元素效应
考题
问答题用内标法进行X射线荧光定量分析可消除基体效应，内标物满足什么条件？
考题
单选题以下哪种X线特性是X线成像中最基础的特性（）A
穿透性B
荧光效应C
摄影效应D
电离效应E
反光作用
