考题
低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比,优点有?
考题
热蒸发法淀积薄膜的淀积速率与哪些因素有关？淀积速率的测量采用什么办法？
考题
热分解化学气相淀积二氧化硅是利用（）化合物，经过热分解反应，在基片表面淀积二氧化硅。
考题
CVD淀积过程中两个主要的限制步骤是什么？它们分别在什么情况下会支配整个淀积速率？
考题
物理气相淀积最基本的两种方法是什么？简述这两种方法制备薄膜的过程。
考题
二氧化硅的制备方法很多，其中最常用的是高温（）、（）淀积、PECVD淀积。
考题
下列气体中通常不能作为气相色谱法的载气是（）。A、氮气B、氢气C、氧气D、氦气
考题
在气相色谱分析中， 用于定性分析的参数是峰面积。
考题
停车以后，外管道中液化气是（）状态。A、气相B、气液混合相C、液相D、不能确定
考题
《工业废水总硝基化合物的测定气相色谱法》（GB/T4919-1995）适用于（）和（）中硝基化合物的测定。
考题
下列各项中，不能用于弥补亏损的是（）。A、盈余公积B、资本公积C、税前利润D、税后利润
考题
下列分析方法中用于化合物结构分析的是（）A、纸色谱B、薄层色谱C、核磁共振D、高效气相色谱
考题
土壤处于干湿交替的情况下，土壤铁、锰化合物经受氧化还原作用而发生的淋溶淀积过程，称为（）
考题
判断题在一个化学气相淀积工艺中，如果淀积速率是反应速率控制的，则为了显著增大淀积速率，应该增大反应气体流量。A
对B
错
考题
问答题化学气相淀积（CVD）的概念，有哪五种基本化学反应？
考题
填空题《工业废水总硝基化合物的测定气相色谱法》（GB／T4919—1985）适用于（）和（）中硝基化合物的测定。
考题
判断题LPCVD系统中淀积速率是受表面反应控制的，APCVD系统中淀积速率受质量输运控制。A
对B
错
考题
填空题缩略语PECVD、LPCVD、HDPCVD和APCVD的中文名称分别是（）、（）、高密度等离子体化学气相淀积和（）。
考题
填空题土壤处于干湿交替的情况下，土壤铁、锰化合物经受氧化还原作用而发生的淋溶淀积过程，称为（）
考题
单选题下列分析方法中用于化合物结构分析的是（）A
纸色谱B
薄层色谱C
核磁共振D
高效气相色谱
考题
问答题低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比，优点有？